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高知工科大学

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ナノテク研シンポジウム2015(11/14)のご案内

2015.10.19  

 学内、学外のナノ材料研究者の交流のきっかけをつくり、互いの研究分野を知ることで、今後の研究協力の可能性を見いだし、研究をさらに活性化することを目的として、今年度も下記のようにシンポジウムを開催します。
 皆さまのご参加をお待ち申し上げます。

日 時: 2015年11月14日(土)10:00~17:10
場 所: 高知工科大学 香美キャンパス 講義棟3階 K-HALL
          キャンパスマップをご参照ください
主 催: 高知工科大学 総合研究所 ナノテクノロジー研究センター
共 催: 応用物理学会中国・四国支部
後 援: エネルギー・環境新技術先導プログラム
     「高品質/高均質薄膜を実現する非真空成膜プロセスの研究開発」研究推進委員会
参加費: 無料
申 込: 参加申し込みは不要(直接会場にお越し下さい)

プログラム:10:00~17:10
     特別講演30分×2件
     富山県立大学 松本 公久 講師「溶液に分散したSiナノ構造材料の発光強度増加」
     京都大学 池之上 卓己 助教「ミストCVD法による銅系材料の成膜 」
     ポスターセッション1時間 (ポスター賞あり)+1分ショートプレゼンテーション
     研究発表20分(口頭発表10分、質疑10分)
     学部1、2年生の聴講も大歓迎

関連リンク:
     シンポジウムHP
     総合研究所HP

ご連絡・お問い合わせ:
 高知工科大学 総合研究所 新田 紀子
 〒782-8502 高知県香美市土佐山田町宮ノ口185
 Tel: 0887-57-2410
 e-mail: nitta.noriko@kochi-tech.ac.jp