【10/4～10/6 開催】山本 哲也教授が「第８回セラミックス ジャパン」に出展します

10月４日（水）～6日（金）、幕張メッセ（千葉県）で開催される「第8回セラミックス ジャパン（高機能セラミックス展）」に、山本 哲也教授（総合研究所マテリアルズデザインセンター）が「反応性プラズマ蒸着法 超薄膜成膜・高速低温成膜・低下地層ダメージ」のテーマで出展します。

セラミックス ジャパンは、世界三大セラミックス展のひとつであり、高機能セラミックス（構造材料、機能材料、生体材料、耐火物）、セラミックコーティング、製造装置、加工技術などが出展する、世界最大級の商談展です。

展示会で山本教授は、日本発の独自技術 (圧力勾配型高密度アークプラズマガンとプラズマビームコントローラ) を超薄膜成膜技術として適応させた 「反応性プラズマ蒸着法(RPD (Reactive Plasma Deposition with dc arc discharge):住友重機械工業株式会社製)」を基にした共同研究（住友重機械工業株式会社、株式会社リガク）の開発成果、特に厚さ5 nm 以下の超薄膜酸化物半導体について紹介します。

皆さまのご来場を心よりお待ち申し上げます。