教員情報詳細

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山本 哲也Tetsuya Yamamoto

  • 1959年生まれ 男性
  • 職位: 教授
  • 役職: マテリアルデザインセンター長
  • 所属:
  • 総合研究所
    総合研究所 マテリアルデザインセンター

教員略歴

学位 理学博士
学歴 北海道大学大学院理学研究科物理学専攻前期博士過程 修了(1988)
大阪大学大学院基礎工学研究科物理学専攻後期博士課程 修了(1997)
職歴 旭化成株式会社研究開発本部基盤技術センター・コンピュータサイエンス室配属(1988~1999)
EOM 国際コンソーシアム in U.S.A.委員(1992~1997)
ダルムシュタット工科大学(ドイツ)派遣研究員(1996~1997)
阪大客員研究員(1997~1998)
高知工科大助教授(1999~2002)
高知工科大教授(2002~)
東北大金属材料研究所非常勤講師(1999~2000)
名工大非常勤講師(2000~2001)
宮崎大非常勤講師(2001~2002)
大阪府大非常勤講師(2001~2003)
理化学研究所共同研究員(2002~2004)
東工大非常勤講師(2003~2004)
資格
専門分野 物質設計
半導体物理工学
磁性体物理工学
計算物理
物性理論
研究室 名称 マテリアルズデザインセンター
詳細 研究領域は固体物性学、 薄膜成長、 低温・低基板ダメージ薄膜成長装置、 固相結晶化法による電子輸送制御、 薄膜特性評価及び評価法の研究開発、そして第1原理電子構造計算法による物質設計に及ぶ。 ワイドバンドギャップ半導体、 特に酸化物薄膜特異の機能を考案し、 その支配因子固有のコンセプトを構築することで「理」を実証する。
所属学会 応用物理学会
Material Research Society
日本材料学会
Society for Information Display (SID)

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本年度担当講義

学部・学群
大学院

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研究シーズ

相談可能な領域 物質設計全般:製膜プロセスと薄膜物性機能との関わり
計算科学:第1原理電子構造計算による物質設計
物質設計と基本特許
現在の研究 ワイドバンドギャップ半導体 (ZnO、 GaN、 AlN、 ZnS など)における価電子制御

酸化物透明導電膜の電気・光学・磁気特性の設計と成膜装置の開発、および製膜プロセスと薄膜機能(電気特性・光学特性・多結晶構造による粒界効果など)との関係

フレキシブルデバイス用透明電極の設計と機能制御

半導体ガスセンサー

メッセージ

植木枝盛「未来がその胸中にある者これを青年という」

研究業績

主な受賞歴など

  • 文部科学大臣賞受賞(研究部門)。業績名:「液晶ディスプレイに実用可能な酸化亜鉛機能膜の開発研究」(2011) 文部科学省

代表的な研究論文

タイトル 著者 発表誌 発表年
Young’s Modulus and Coefficient of Linear Thermal Expansion of ZnO Conductive and Transparent Ultra-Thin Films YAMAMOTO, Naoki,Makino, Hisao,Yamamoto, Tetsuya Advances in Materials Science and Engineering,Vol.2011 2011
Development of Ga–doped ZnO Transparent Electrodes as Alternatives for ITO Electrodes in Liquid Crystal Displays YAMAMOTO, Naoki,Makino, Hisao,Sato, Yasushi,Yamamoto Tetsuya the SID 2011 digest of technical papers,pp.1375-1378 2011
Controlled Formation of ZnO Fine-Pattern Transparent Electrodes by Wet-Chemical Etching YAMAMOTO, Naoki,Makino, Hisao,Sato, Yasushi,Yamamoto, Tetsuya ECS Transactions,Vol.35,No.Issue: 8 ,pp.165-172 2011
Development of Ga-doped ZnO Transparent Electrodes for Liquid Crystal Display Panels YAMAMOTO, Naoki,Makino, Hisao,Osone, Satoshi,Ujihara, Akira,Ito, Takahiro,Hokari, Hitoshi,Maruyama, Taketo,Yamamoto, Tetsuya Thin Solid Films 2011
Effects of the O2 flow rate and post-deposition thermal annealing on the optical absorption spectra of Ga-doped ZnO films H. Makino,T. Yamada,N. Yamamoto,T. Yamamoto Thin Solid Films,Vol.519,No.5,pp.1521-1524 2010
Heat Resistance of Ga-Doped ZnO Thin Films for Application as Transparent Electrodes in Liquid Crystal Displays YAMAMOTO, Naoki,Yamada Takahiro,Makino, Hisao,Yamamoto, Tetsuya J. Electrochem. Soc.,Vol.157,pp.J13-J20 2010
Influence of substrate temperature and Zn-precursors on atomic layer deposition of polycrystalline ZnO films on glass, H. Makino, A. Miyake, T. Yamada, N. Yamamoto, T. Yamamoto, H. Makino,S. Kishimoto,A. Miyake,T. Yamada,N. Yamamoto,T. Yamamoto Thin Solid Films,Vol.517,pp.3138 2009
Influence of thermal annealing on electrical and optical properties of Ga-doped ZnO thin films Hisao Makino,Naoki Yamamoto,Aki Miyake,Takahiro Yamada,Yoshinori Hirashima,Hiroaki Iwaoka,Takahiro Itoh,Hitoshi Hokari,Hisashi Aoki,Tetsuya Yamamoto Thin Solid Films,Vol.518,pp.1386-1389 2009
Effects of surface pretreatment on growth of ZnO on glass substrate H. Makino,S. Kishimoto,A. Miyake,T. Yamada,N. Yamamoto,T. Yamamoto phys. stat. sol. (a),Vol.205,No.8,pp.1971-1974 2008
Relationship between Residual stress and Crystallographic Structure in Ga-doped ZnO Film YAMAMOTO, Naoki,Yamada, Takahiro,Miyake, Aki,Makino, Hisao,Kishimoto, Seiichi,Yamamoto, Tetsuya J. Electrochem. Soc.,Vol.155,No.9,pp.J221-J225 2008
Properties of Transparent Conductive Ga-Doped ZnO Films on Glass, PMMA and COP Substrates Tetsuya Yamamoto,Takahiro Yamada,Aki Miyake,Toshiyuki Morizane,Tooru Arimitsu,Hisao Makino,Naoki Yamamoto Invited Paper, IEICE TRANSACTIONS on Electronics,Vol.E91-C,No.10,pp.1547-1553 2008
Low resistivity Ga-doped ZnO thin films of less than 100nm thickness prepared by ion-plating with direct current arc discharge Takahiro Yamada,Aki Miyake,Seiichi Kishimoto,Hisao Makino,Naoki Yamamoto,Tetsuya Yamamoto APPLIED PHYSICS LETTERS,Vol.91,pp.051915 2007
Effects of oxygen partial pressure on film growth and electrical properties of undoped ZnO films with thichness below 100nm Seiichi Kishimoto,Takahiro Yamada,Keigo Ikeda,Hisao Makino,Tetsuya Yamamoto Surface & Coatings Technology,Vol.201,pp.4000-4003 2006
“Effects of oxygen-gas flow rate on lattice dynamics and microstructures for Ga-doped ZnO thin films prepared by reactive plasma deposition Tetsuya Yamamoto,Tooru Mitsunaga,Minoru Osada,Keigo Ikeda,Seiichi Kishimoto,Kiyoshi Awai,Hisao Makino,Takahiro Yamada,Toshiyuki Sakemi,Sho Shirakata Superlattices and Microstructures,Vol.38,pp.369-376 2005
Dependance of carrier concentrations on oxygen pressure for Ga-doped ZnO prepared by ion plating method Tetsuya Yamamoto,Toshiyuki Sakemi,Kiyoshi Awai,Sho Shirakata Thin SolidFilms,Vol.451,pp.439-442 2004
Control of N-Impurity States in N-Doped ZnO, ZnS and ZnTe Tetsuya Yamamoto Jpn. J. Appl. Phys.,Vol.42,pp.L514-L516 2003
Codoping for the fabrication of p-type ZnO Tetsuya Yamamoto Thin Solid Films,Vol.420-421,pp.100-106 2002

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主な特許

  1. 酸化亜鉛透明導電膜関連

科学研究費

KAKENは国立情報学研究所が行っているサービスです。

区分 研究課題 研究種目 研究期間 課題番号
代表 吸着酸素化学状態制御による高感度水素センサー 基盤研究(A) 2012/04/01 - 2015/03/31 24241025

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競争的資金など

研究課題 事業名等 研究期間 受託先 担当教員
X線光電子分光装置用Crターゲットにおける高X線強度実現のための高融点披膜 知財活用促進ハイウェイ 2013/10/31~2014/03/31 (独)科学技術振興機構(JST) 山本 哲也

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社会貢献及び広報活動

学外委員・学会活動など

  1. 日本MRS-J 企画(2011)
  2. IUMRS-ICA 2011 セッション企画者(2011)
  3. AVS 国際会議シンポジウム企画委員およびセッションチェアマン (ICMCTF)(2009~)
  4. 日本学術振興会 ワイドギャップ光・電子デバイス第162委員会委員
  5. 日本学術振興会 半導体界面制御技術第154委員会委員

その他の社会活動など

  1. 日経産業新聞 「希少金属インジウム原単位使用大幅削減技術」記事掲載
  2. 日本経済新聞 第二部 (平成22年3月31日)、「挑む」記事掲載
  3. テレビ東京『ワールドビジネスサテライト』(平成22年4月13日)内の特集脱レアメタル ~素材・新時代を拓け~

一般講演など

  1. 「偶然から設計へ-若き人への助言」,
  2. 「失敗は成功のもと、と言い切れる人生を」,
  3. 「本物を見る目」,
  4. 「発見と発明」,
  5. 「人類の歴史における科学の役割」,

主な著書など

  1. 超高効率太陽電池・関連材料の最前線:第5章 薄膜太陽電池用 ZnO 系透明導電膜,シーエムシー出版株式会社,2011,ISBN 978-4-7813-03
  2. 酸化亜鉛の最先端技術と将来,シーエムシー出版株式会社,2011,ISBN 978-4-7813-03
  3. 酸化亜鉛の最先端技術と将来:第4章1.液晶ディスプレイ用透明導電膜,シーエムシー出版株式会社,2011,ISBN 978-4-7813-03
  4. 酸化亜鉛の最先端技術と将来:第7章1.ドーピング制御とその展開,シーエムシー出版株式会社,2011,ISBN 978-4-7813-03
  5. 新コーテイングのすべて第2章、2.2(3) 反応性プラズマ蒸着法による酸化亜鉛透明導電膜,株式会社加工技術研究会,2009
  6. 透明導電膜の新展開III―ITOとその代替材料開発の現状― 第8章,シーエムシー出版株式会社,2008,ISBN 978-4-7813-00
  7. 最新透明導電膜大全集第4章酸化亜鉛透明導電膜,株式会社情報機構,2007,ISBN 9784901677875
  8. 最新透明導電膜大全集第9章第1原理電子構造計算法による酸化亜鉛マテリアルデザイン,株式会社情報機構,2007,ISBN 9784901677875
  9. 最新導電性材料大全集【下】第16章第2節酸化亜鉛透明導電膜,技術情報協会,2007,ISBN 978-4-86104-1
  10. ZnO系の最新技術と応用, 共著, 第3章透明導電膜,シーエムシー出版,2007,ISBN 978-4-88231-6
  11. 脱ITOに向けた透明導電膜の低抵抗・低温・大面積製膜技術, 第2章第3節アーク放電蒸着法,技術情報協会,2005,ISBN 978-4-86104-1
  12. 最新透明導電膜動向~材料設計と製膜技術・応用展開~, 第13章酸化亜鉛,株式会社情報機構,2005,ISBN 4-901677-33-0
  13. 最新透明導電膜動向~材料設計と製膜技術・応用展開~, 第6章酸化亜鉛,株式会社情報機構,2005,ISBN 4-901677-33-0