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2014.8.22お知らせ
高知工科大学ナノテク研シンポジウム2014(10/25)のご案内
学内、学外のナノ材料研究者の交流のきっかけをつくり、互いの研究分野を知ることで、今後の研究協力の可能性を見いだし、研究をさらに活性化することを目的として、今年度も下記のようにシンポジウムを開催します。
皆さまのご参加をお待ち申し上げます。
日 時: 2014年10月25日(土)10:00〜17:00
場 所: 高知工科大学C棟1F C102 (〒782-8502 高知県香美市土佐山田町宮ノ口185)
キャンパスマップを参照ください。
主 催: 高知工科大学 総合研究所 ナノテクノロジー研究センター
協 賛: 応用物理学会中国・四国支部、日本金属学会中四国支部
参加費: 無料
申 込: 参加申し込みは不要(直接会場にお越し下さい)
■プログラム
開会のあいさつ 高知工科大学 総合研究所 ナノテクノロジー研究センター所長 八田 章光
【座長:古田 守】
10:10-10:30 「集束イオンビームによって作製したGe表面周期構造の微細化の検討」
松本 亜里紗、森田 憲治(現: 日本鋳造株式会社)、
重松 晃次(現: 九州大学大学院)、新田 紀子、前田 敏彦、
谷脇 雅文(高知工科大学)
10:30-10:50 「大気圧プラズマジェット触媒表面処理によるCNTの局所成長」
本郷 知紀、小路 紘史、呉 準席、古田 寛、八田 章光(高知工科大学)
【座長:李 朝陽】
10:50-11:10 「親水/疎水パターニング基板における微粒子分散液滴の乾燥挙動」
中島 大貴、川原村 敏幸(高知工科大学)
11:10-11:30 「ZnO Nanorods Fabricated by Chemical Bath Deposition」
Shengwen Hou、Chaoyang Li、
Toshiyuki Kawaharamura(Kochi University of Technology)
【座長:眞田 克】 特別講演1
13:00-14:00 「ラマン分光法およびルミネッセンス法の先端半導体デバイス不良解析への応用」
杉江 隆一(株式会社 東レ リサーチセンター)
【座長:川原村 敏幸】 特別講演2
14:10-14:40 「低温成長InxGa1-xAsの結晶構造とそのアニール温度依存性」
富永 依里子、角屋 豊(広島大学)
【座長:八田 章光】
14:50-15:10 「α-In2O3薄膜の電気特性」
北島 雅士、伊藤 義人、金子 健太郎、藤田 静雄(京都大学)
15:10-15:30 「Improvement of Bias-temperature Stress Stability of InGaZnO Thin-film
Transistor by Fluorine Passivation of Traps」
Jingxin Jiang、Tatsuya Toda、Dapeng Wang、
Mamoru Furuta(Kochi University of Technology)
15:30-15:50 「フェノール樹脂担持パラジウム触媒の開発とその表面解析」
浅原 時泰、西脇 永敏(高知工科大学)
15:50-16:10 「High Performance and Stability of MESFETs with a-In-Ga-Zn-O Channel
Grown by Atmospheric Pressure Solution-processed Mist CVD」
Giang T. Dang(University of Canterbury)、
Toshiyuki Kawaharamura、Mamoru Furuta(Kochi University of Technology)、
Martin W. Allen(University of Canterbury)
閉会のあいさつ 高知工科大学 研究本部長 木村 良
【学外参加者対象】
16:30-17:00 ナノテクノロジー研究センター 施設見学
ご連絡・お問い合わせ:
高知工科大学 総合研究所 新田 紀子
〒782-8502 高知県香美市土佐山田町宮ノ口185
Tel: 0887-57-2775
e-mail:nitta.noriko@kochi-tech.ac.jp
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