2015.10.19お知らせ

ナノテク研シンポジウム2015（11/14）のご案内

　学内、学外のナノ材料研究者の交流のきっかけをつくり、互いの研究分野を知ることで、今後の研究協力の可能性を見いだし、研究をさらに活性化することを目的として、今年度も下記のようにシンポジウムを開催します。

　皆さまのご参加をお待ち申し上げます。

日　時：　2015年11月14日（土）10:00〜17:10
場　所：　高知工科大学 香美キャンパス 講義棟3階　K-HALL
　　　　　　　　　　キャンパスマップをご参照ください
主　催：　高知工科大学 総合研究所 ナノテクノロジー研究センター
共　催：　応用物理学会中国・四国支部
後　援：　エネルギー・環境新技術先導プログラム
　　　　　「高品質/高均質薄膜を実現する非真空成膜プロセスの研究開発」研究推進委員会
参加費：　無料
申　込：　参加申し込みは不要（直接会場にお越し下さい）
プログラム：10:00〜17:10　特別講演30分×2件
　　　　　　　　富山県立大学　松本 公久 講師
　　　　　　　　「溶液に分散したSiナノ構造材料の発光強度増加」
　　　　　　　　京都大学　池之上 卓己 助教
　　　　　　　　「ミストCVD法による銅系材料の成膜 」
　　　　　　　ポスターセッション1時間 (ポスター賞あり)＋1分ショートプレゼンテーション
　　　　　　　研究発表20分（口頭発表10分、質疑10分）
　　　　　　　学部1、2年生の聴講も大歓迎

関連リンク：　シンポジウムHＰ
ご連絡・お問い合わせ：　高知工科大学 総合研究所　新田 紀子
　　　　　　　　　　　　〒782-8502 高知県香美市土佐山田町宮ノ口185　
　　　　　　　　　　　　Tel: 0887-57-2410　e-mail: nitta.noriko@kochi-tech.ac.jp

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