2010.1.19イベント
ナノとバイオの融合ビジネス 「ナノバイオExpo2010」に出展します
東京ビックサイトで2月17日（水）〜19日（金）の3日間に亘り開催される『ナノバイオ Expo2010』 に、ナノデバイス研究所・教授 平尾 孝と環境理工学群・准教授 堀井 滋が出展致します。■会期 2010年2月17日（水）〜19日（金） 開館：10時〜17時■会場 東京ビッグサイト 東6ホール （東京都江東区有明3-11-1） ※高知工科大学は、東6ホール 四国ＴＬＯブース内で出展します。■事前Online登録（無料） 事前登録をされた方は、展示会無料招待券が贈呈されます。ナノバイオ Expo 2010の公式ＷＥＢサイトよりご登録下さい。 http://www.nanobioexpo.jp■高知工科大学からの出展 ◇ナノデバイス研究所教授 平尾 孝准教授 古田 守助手 平松 孝浩 「新規プラズマ源によるプラズマCVD装置及び低温高速絶縁膜形成技術」・技術の概要 極めて簡単な構造で小面積から大面積基板に対応可能な高密度プラズマ源を具備し、低温（RT〜150℃）で高品質な絶縁膜等を高速形成することが可能な新規プラズマCVD装置及びそれを用いた薄膜合成技術。・産業への応用（使用によるメリット、使用用途 など） 本装置は、低融点フィルム基板もしくは各種デバイスに薄膜を低温形成する場合に極めて有効な装置及び薄膜合成技術である。プラズマ源の構成により低融点フィルム基板及びロール状基板の両面に保護膜やデバイス用薄膜を低温高速堆積することにより高信頼性フレキシブル基板あるいはフレキシブルデバイス開発に極めて大きなメリットを有する。デバイス応用としてフレキシブル電子ペーパーや有機ＥＬディスプレイ等や更に一般的なガラス基板等への薄膜成長にも適用可能である。◇環境理工学群准教授 堀井 滋「強磁場を利用した機能性セラミックスの配向組織制御」・技術の概要 高配向性材料化のツールとして圧延や溶融凝固がありますが、強磁場を利用することも可能となっています。材料物質の磁気異方性を利用した強磁場配向法では、室温のもと非接触で配向組織の形成が可能となります。また、3つの結晶軸を整列させた三軸結晶配向も可能です。・産業への応用 コロイドプロセスとの融合による高配向性セラミックスの創製など。
