ミスト成膜先端技術研究室
研究室概要
目的
我々の生活は様々な電子素子（デバイス）により支えられています。電子素子の製造において「前工程」は何よりも重要であり、前工程の中でも薄膜形成は最も高度な技術開発が求められます。
そこで本研究室では、薄膜形成技術開発を通じて、素子を構成する「材料そのものの性質」や、材料同士の「接合界面の状態」を制御する技術の開発に取り組み、素子性能を向上させる技術の確立に取り組む予定です。そのため、各機能膜や素子の作製や評価に係わる研究を行い、実験および計算の両観点から、各特性を向上させるための機構の解明に努め、対象材料の特性を最大限発揮させることができるような次世代機能膜形成技術の確立を目的とした研究を行います。
研究室構成員
研究方針と今後の展望
本研究室では、大気圧下溶液系機能膜合成手法「ミスト CVD」技術を中心に、各種酸化物（特にGaやZn）の薄膜をエピ成長する技術の開発と、それらの薄膜内への欠陥の発生を抑制および低減する技術の開発を行い、それらを用いたデバイスの創出を行います。
また、ミスト塗布やミストCVD によって機能膜を合成したいと要望される企業や研究者に研究用汎用装置の利用をとおして、共同研究の推進（予算獲得）に繋げたり、成果を論文としてまとめて発信します。
１．従来法の延長
ミストCVD方で、欠陥密度の小さな機能膜を合成する技術の確立を目指します。
２．新技術の開発
ホモ・ヘテロエピ成長に変わる新たな機能膜合成技術の開発に取り組みます。
３．ミストCVDの強み
界面欠陥の低減技術を確立します。
４．世界との交流
研究用汎用装置を世界中の研究者が使用できる仕組みを構築します。
