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本年度担当講義

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研究シーズ

メッセージ

新規材料合成とナノサイズ機能デバイス実証を研究テーマにしています。トランジスタや太陽電池を自分の手で実現してみよう！

研究業績

主な受賞歴など

• Special Recognition Award（2021） Society for Information Display
• APEX/JJAP編集貢献賞（2017） 応用物理学会
• [Student Award(指導学生)]薄膜材料デバイス研究会第9回研究集会（2012） 薄膜材料デバイス研究会
• "Student Award", Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices (AM-FPD 12)　(指導学生)（2012） 応用物理学会
• "Best Paper Award",薄膜材料デバイス研究会第8回研究集会（2011） 薄膜材料デバイス研究会
• "丹羽高柳論文賞",映像情報メディア学会（2011） 映像情報メディア学会
• "Best Paper Award",薄膜材料デバイス研究会第7回研究集会（2010） 薄膜材料デバイス研究会
• "Student Paper Award", Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices (AM-FPD'09)　(指導学生)（2009） Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices (AM-FPD)
• "Outstanding Poster Paper Award", The 13th International Display Workshop (IDW’06)（2006） Society for Information Display
• ”Distinguished Paper Award”, International Symposium SID 2006（2006） Society for Information Display

代表的な研究論文

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学会発表・講演など

1. Polycrystalline Indium Oxide for High-Mobility Thin-Film Transistors，2024 Asia-Pacific Workshop on Advanced Semiconductor Devices (AWAD 2024)（2024）
2. High-mobility Polycrystalline Indium Oxide (InOx:H) Thin-film Transistor，18th International Thin-Film Transistor Conference（2024）
3. High Mobility Metal Oxide Semiconductor Thin-Film Transistors for Display and LSI Applications，International Conference on Consumer Electronics and Devices (ICCED2023)（2023）
4. Solid-phase crystallization of hydrogen-doped indium oxide for low-temperature processed TFTs，International conference on Semiconductor Technology for Ultra Large Scale Integrated Circuits and Thin Film Transistors (ULSIC vs TFT 8)（2023）
5. Solid-phase crystallization (SPC) of hydrogen-doped polycrystalline indium oxide (InOx:H) for high-mobility thin-film transistors (TFTs)，29th International Conference on Amorphous & Nanocrystalline Semiconductors（2022）
6. Nondegenerate Hydrogen-Doped Polycrystalline InOx:H Thin Film for High-mobility Thin-Film Transistors，242th ECS Meeting（2022）
7. Hydrogen-doped polycrystalline indium oxide (InOx:H) formed by solid phase crystallization for high-mobility TFTs，17th International Thin-Film Transistor Conference (ITC2022)（2022）
8. High mobility hydrogen-doped polycrystalline indium oxide (InOx:H) TFTs，The 22nd International Meeting on Information Display (IMID2022)（2022）
9. Solid Phase Crystallization of Hydrogenated Indium Oxide (InOX:H) for High Mobility Thin-Film Transistors，International Workshop on Active-matrix Flatpanel Displays and Devices (AM-FPD22)（2022）
10. Metal oxide semiconductor thin-film transistor technologies for display applications，International conference on Consumer Electronics and Devices (ICCED2022)（2022）
11. Low-voltage operation of hydrogenated IGZO (IGZO:H) TFTs with an anodize Al2O3 gate dielectric for flexible devices，International TFT conference (ITC2020/2021)（2021）
12. High mobility hydrogenated polycrystalline In-Ga-O (IGO:H) thin-film transistors formed by solid phase crystallization，Society for Information Display（2021）
13. 酸化物半導体による多結晶シリコン薄膜トランジスタへの挑戦，シリコン材料・デバイス研究会（SDM）（2021）
14. Heterojunction Channel Engineering for Oxide Thin-Film Transistors，The 6th International Conference on Electronic Materials and Nanotechnology for Green Environment (ENGE2020)（2020）
15. Heterojunction Channel Engineering for in-Ga-Zn-O Thin-Film Transistors，Electrochemical Socierty (ECS PRiME2020)（2020）
16. 非晶質酸化物半導体In-Ga-Zn-Oヘテロ接合チャネル薄膜トランジスタ，シリコン材料・デバイス／有機エレクトロニクス研究会（2019）
17. TFTs for Active Matrix: from Silicon to Oxides and New materials，3rd International Conference on Consumer Electronics and Device (ICCED 2019)（2019）
18. Carrier transport and bias stress stability of IGZO TFT with heterojunction channel，7th International Conference on Semiconductor Technology for ULSI and TFTs（2019）
19. ヘテロ接合チャネルによるIn–Ga–Zn–O薄膜トランジスタの高移動度・高信頼性化，応用物理学会春季学術講演会（2019）
20. フレキシブルデバイスに向けた酸化物薄膜トランジスタの低温プロセス，題79回応用物理学会秋季学術講演会シンポジウム（2018）
21. Mobility enhancement of InGaZnOx thin-film transistor by hetero-channel with a different composition，International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2018)（2018）
22. Low-temperature activation method for InGaZnOx thin-film transistors，ECS and SMEQ Joint International Meeting（2018）
23. ヘテロ接合チャネルIGZO TFTの特性・信頼性，第2回酸化物半導体討論会（2018）
24. Low-temperature activation of Ar+O2+H2 sputtered In–Ga–Zn–O film followed by thermal annealing，4th E-MRS & MRS-J Bilateral Symposium 2018 (7th International Symposium on Transparent on Conductive Materials (TCM2018))（2018）
25. Low-temperature Processed InGaZnOx TFT with an Organic Gate Insulator，5th International Conference on Electronic Materials and Nanotechnology for Green Environment (ENGE 2018)（2018）
26. 酸化物半導体InGaZnOx薄膜トランジスタの特性制御，シリコン材料・デバイス研究会（SDM）（2018）
27. Doping and Defect Passivation in In-Ga-Zn-O by Fluorine，Semiconductor Technology for Ultra Large Scale Integrated Circuits and Thin Film Transistors V（2015）
28. Self-Aligned Bottom-Gate InGaZnO Thin-Film Transistor with Source and Drain Regions Formed by Selective Deposition of Fluorinated SiNx Passivation，The 2014 ECS and SMEQ (Sociedad Mexicana de Electroquímica) Joint International Meeting（2014）
29. Influence of Lateral Electric Field and Electron Concentration on Degradation Mechanism of IGZO TFT Under Negative Gate Bias and Illumination Stress，The 14th International Meeting on Information Display (IMID2014)（2014）
30. [Invited] High performance oxide Thin-Film Transistor fabricated
    using atmospheric pressure deposition method，International Conference on Advanced Materials（2013）
31. High mobility IGZO TFT fabricated by solution-based non-vacuum mist chemical vapour deposition，4th International Conference of Semiconductor Technology for ULSI and TFT（2013）
32. [Invited]Atmospheric pressure Processed InGaZnO Thin-film transistors，The 2013 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai（2013）
33. [Invited] Solution-Based Atmospheric Pressure Deposition Method for Oxide TFTs，The 19th International Display Workshops (IDW/AD'12)（2012）
34. A-InGaZnO Thin-Film Transistor with Non-Vacuum Processed InGaZnO/AlOx Gate Dielectric Stack.，Pacific RIM Meeting on Electrochemical and Solid-state Science（2012）
35. Floating Body Effects in High-Mobility Oxide Thin-film Transistor，The 12th International Meeting on Information Display（2012）
36. [Keynote]
    Oxide Thin-Film Transistors for Flat Panel Displays and Transparent Electronics，20th International Conference on Composites or Nano Engineering（2012）
37. [Invited] Effect of Channel/Gate-insulator Interface Treatment on Uniformity of Bottom-Gate Zinc Oxide Thin-Film Transistors (ZnO TFTs)，The 6th International Thin-Film Transistor Conference (ITC ‘10)（2010）
38. [Invited] Effects of Interfacial Processes of Gate Dielectric on Electrical Properties and Reliability of Bottom-Gate ZnO TFTs.，10th International Meeting on Information Display/International Display Manufacturing Conference and Asia Display 2010 (IMID/IDMC/ASIA DISPLAY 2010)（2010）
39. [Invited] Stability of Zinc Oxide Thin-Film Transistors (ZnO TFTs)，16th international Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices (AMFPD ’09)（2009）
40. [Invited] Characterization of Sputter Deposited ZnO thin film and Its Application to Thin-Film Transistors，13th International Display Workshops (IDW ’06)（2006）

主な特許

1. 薄膜及び成膜方法並びに該方法により得られる薄膜蛍光体（特開2011-021159）
2. 海外登録特許 (筆頭発明) USP5397718, 5523865, 6034748, 6309917, 6420760等 (13件以上)
3. 国内登録特許 (筆頭発明) 2502789, 2584117, 2970176, 3438178, 3029787, 3210568, 2917925, 3274081, 3318285, 3357038 等 (10件以上)
4. 薄膜形成方法、薄膜トランジスタおよび液晶表示装置、電子放出素子等 (国内出願120件以上／海外出願50件以上)

科学研究費

KAKENは国立情報学研究所が行っているサービスです。

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社会貢献及び広報活動

学外委員・学会活動など

1. 応用物理学会欧文誌 Editor, Applied Physics Express（2019～2020）
2. SSDMプログラム委員(Area10 Chair)（2020）
3. 国際会議IMIDプログラム委員（2019～2020）
4. MDPI 論文誌Materials, Guest Editor
   Special Issue "Silicon and Metal Oxide Thin Film Transistors: Materials, Process Technology, Device Physics, and Reliability"（2019～2021）
5. 応用物理学会 応用物理学会欧文誌 APEX/JJAP編集委員（2018～2019）
6. 国際会議(AM-FPD)座長（2018）
7. International Thin-Film Transistor Conference プログラム運営委員（2012～2013）
8. 薄膜材料デバイス研究会 組織委員/実行委員長（2011～2012）
9. 国際会議　International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices プログラム委員会委員長/JJAP論文委員（2011～2013）
10. International Symposium on Compound Semiconductor プログラム委員（2009）
11. International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Display and Devices プログラム委員（2009～）
12. 薄膜デバイス研究会 組織委員（2005～）

その他の社会活動など

1. 東京工業大学　応用セラミックス研究所　客員教授（2012～）

一般講演など

1. フレキシブルデバイスに向けた高品質酸化物半導体の新たな低温形成技術，JST新技術説明会（2018）
2. 酸化物TFT　～プロセス技術からデバイス特性・信頼性～，国際会議AM-FPD'13　チュートリアル講演（2013）
3. 大気圧プロセスによる酸化物TFT，FineTech Japanテクニカルセミナー（2013）
4. 酸化物半導体の形成方法、TFT特性・信頼性・今後の課題
   ～次世代ディスプレイ実用化に向けた技術～，(株)情報機構（2012）

主な著書など

1. “ZnO化合物系の最新応用”第6章(分担執筆)，シーエムシー出版，2010
2. 薄膜トランジスタ, 共著，コロナ社，2008
3. 薄膜ハンドブック(第２版), 分担執筆，日本学術振興会薄膜第131委員会，2008
4. 低温ポリシリコン薄膜トランジスタの開発ーシステムオンパネルをめざしてー, 分担執筆，シーエムシー出版，2007

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