教員情報詳細

綿森 道夫WATAMORI Michio
- 1962年生まれ 男性
- 所属:
システム工学群
大学院工学研究科 基盤工学専攻 電子・光システム工学コース
大学院工学研究科 基盤工学専攻 電子・光システム工学コース
教員略歴
学位 | 工学博士 | |
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学歴 | 大阪大学大学院博士後期課程 修了(1990) | |
職歴 | 大阪大学助手 | |
資格 | ||
専門分野 |
表面・界面物理
イオンビーム分析 薄膜物性 |
|
研究室 | 名称 | プロセッサ回路の設計・制御(研究室) |
詳細 | プロセッサを用いて、従来高価で複雑な電子回路をシンプルで安価に実現することを目指します。電子工作の流行に伴い、プロセッサは著しく進歩して、今まで高価な測定装置に使われた回路も置き換え可能になりました。実際に製作を行うことで、設計力のみならずはんだ付けの技術なども向上します。3Dプリンタも併用します。 | |
所属学会 |
応用物理学会
日本物理学会 低温学会 日本真空協会 |
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本年度担当講義
学部・学群 | 卒業研究 / ディジタル信号処理 / 回路・過渡 |
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大学院 | セミナー1 / セミナー2 / 特別研究 |
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研究シーズ
相談可能な領域 |
半導体材料
薄膜作成 回路設計 デジタルビデオ編集 3Dアニメーション |
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現在の研究 |
機能性薄膜のイオンビーム分析
マイコンを用いた制御用電子回路 |
メッセージ
研究業績
代表的な研究論文
タイトル | 著者 | 発表誌 | 発表年 |
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Ion beam analysis of PZT thin films | M.Watamori,M.Isono,H.Madono,Y.Kawano,K.Sasabe,T.Hirao,K.Oura | Appl. Surf. Sci.,No.142,pp.422-427 | 1999 |
High-energy ion beam analysis of ferroelectric thin films | M.Watamori,S.Honda,O.Kubo,I.Kanno,T.Hirao,K.Sasabe,K.Oura | Appl. Surf. Sci.,No.117/118,pp.453-458 | 1997 |
A new method for the detection of native oxide on Si with combined use of 16O (α, α) 16O resonance and channeling | M.Watamori,O.Kubo,K.Oura | Appl. Surf. Sci.,No.113/114,pp.403-407 | 1997 |
Channeling analysis of oxygen in oxide materials using 16O (α, α) 16O resonant backscattering | M.Watamori,T.Hirao,K.Sasabe | Nucl. Instr. & Methods,No.B118,pp.233-237 | 1996 |
Backscattering analysis of thin SiO2 films on Si using 16O (α, α) 16O 3.045MeV resonance | M.Watamori,K.Oura,T.Hirao,K.Sasabe | Nucl. Instr. & Methods,No.B118,pp.228-232 | 1996 |
Methodology for Accurate Oxygen Distribution Analysis and Its Application to YBa_2Cu_3O_x Thin Films Using ^<16>O (a, a) ^<16>O 3.045 MeV Resonance Reaction | M.Watamori | 1900 |
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社会貢献及び広報活動
一般講演など
- マイナスイオンって何?,
- 光って何だろう?,
- LEGO から学ぶ物理,
- 電子ペットの科学,
主な著書など
- 表面科学シリーズ5 表面の組成分析の第3章の6「ラザフォード後方散乱分光 (RBS) 」,丸善,1999
- 「リコイル散乱 (ERD) 」半導体計測辞典,サイエンスフォーラム社,,1993
- 「ラザフォード散乱法 (RBS) 」半導体計測辞典,サイエンスフォーラム社,1993
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