教員情報詳細

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川原村 敏幸Toshiyuki Kawaharamura

  • 1980年生まれ 男性
  • 職位: 教授
  • 所属:
  • システム工学群
    大学院工学研究科 基盤工学専攻 知能機械システム工学コース
    総合研究所 ナノテクノロジー研究センター
    総合研究所 統合量子素子研究室
    総合研究所 構造ナノ化学研究室
  • ホームページ: http://www.nano.kochi-tech.ac.jp/tosiyuki/index.html
  • researchmap: https://researchmap.jp/TKawaharamura

教員略歴

学位 博士 (工学)
学歴 京都大学工学部工業化学科 卒業(2003)
京都大学大学院工学研究科 化学工学専攻 ドルトムント大学(独)との交流プログラムにてドイツへ留学 (2003.8)(2003)
京都大学大学院工学研究科化学工学専攻修士課程 修了(2005)
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻博士後期課程 修了(2008)
職歴 文科省主催「第一回文部科学省ナノテクノロジーサマースクール」へ参加(2005~)
日本学術振興会特別研究員 (DC2)(2007~2008)
高知工科大学 ナノデバイス研究所 助教(2008~2011)
科学研究費補助金 (若手研究(スタートアップ)) 採択(2008~2010)
科学研究費補助金(若手研究(B)) 採択(2010~2012)
大阪桐蔭高等学校・中学校非常勤講師(2004~2007)
有限会社大学技術回生舎 設立 取締役(2006~2007)
高知工科大学 ナノテクノロジー研究所 助教(2011)
高知工科大学ナノテクノロジー研究所講師(2012~)
資格 中学校教諭一種免許状(数学)(2007)
高等学校教諭一種免許状(数学)(2007)
高等学校教諭一種免許状(理科)(2007)
専門分野 化学工学
電子工学
成長技術
薄膜形成反応論
超音波技術
噴霧技術
流体解析
数値計算
半導体の電子物性
発光の物理
反応工学
最適化
燃料電池
表面処理技術
研究室 名称 材料革新サスティナブルテクノロジー研究室
詳細 1.ミスト液滴の物理 (挙動観測、制御) 2.ミスト液滴を利用した新技術の開発 3.大気圧開放雰囲気下で機能薄膜(有機・無機)を作製する技術の開発 4.機能薄膜の作製とその特性評価 5.機能デバイスの作製とその特性評価

所属学会 応用物理学会
CVD研究会 http://cvd.jpn.org/
EMS http://ems.jpn.org/

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本年度担当講義

学部・学群 卒業研究 / 基礎熱力学 / 機械熱力学 / 専門英語 / 工学概論
大学院 熱力学特論 / 特別研究 / セミナー1 / セミナー3 / 特別セミナー1 / 特別セミナー2

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研究シーズ

相談可能な領域 上記記載の専門分野全般
現在の研究 金属酸化物薄膜の成長に関わる化学反応メカニズムの解析

酸化亜鉛(ZnO)薄膜を活用した各種デバイスの作製及び評価

環境負荷の小さな成長プロセス及び装置の開発・設計

ミスト利用した新規技術の開発

メッセージ

今のレベルでやれることはそれほど大きくないですが、皆様にとって面白いと思える未来を提供するために一研究者として、日々精進します。

研究業績

主な受賞歴など

  • 第37回(2015年度)応用物理学会論文奨励賞(2015) 応用物理学会
  • 2014年 第75回 応用物理学会秋季学術講演会 Poster Award(2014) 応用物理学会
  • 第七回 薄膜材料デバイス研究会 ベストペーパーアワード(2010) 薄膜材料デバイス研究会
  • 第22回 (2007年春期) 応用物理学会講演奨励賞(2007) 第54回応用物理学関係連合講演会
  • 第26回EMS賞(2007) 電子材料シンポジウム
  • VBL若手研究助成奨励賞(2007) 京大VBL若手研究助成成果発表会 
  • VBL若手研究助成最優秀賞(2006) 京大VBL若手研究助成成果発表 
  • ナノ工学高等研究員若手研究者優秀賞(2005) 第3回ナノ工学高等研究員若手研究者発表会

代表的な研究論文

タイトル 著者 発表誌 発表年
Growth mechanism of Zinc Oxide thin film by mist chemical vapor deposition via the modulation of [H2O]/[Zn] ratios Phimolphan Rutthongjan,Misaki Nishi,Liu Li,Shota Sato,Yuya Okada,Dang Thai Giang,Toshiyuki Kawaharamura Appl. Phys. Express,Vol.12,pp.065505 2019
Electronic devices fabricated on mist-CVD-grown oxide semiconductors and their applications Dang Thai Giang,Martin Allen,Mamoru Furuta,Toshiyuki Kawaharamura Japanese Journal of Applied Physics,Vol.58,pp.090606 2019
Composition control of Zn1-xMgxO thin films grown using mist chemical vapor deposition Phimolphan Rutthongjan,LI LIU,Misaki Nishi,Masahito Sakamoto,Shota Sato,Ellawala Kankanamge Chandima Pradeep,Dang Thai Giang,Toshiyuki Kawaharamura Japanese Journal of Applied Physics,Vol.58,pp.035503 2019
Study on fabrication of conductive antimony doped tin oxide thin films (SnOx:Sb) by 3rd generation mist chemical vapor deposition Li Liu,Toshiyuki Kawaharamura,Dang Thai Giang,Ellawala Kankanamge Chandima Pradeep,Shota Sato,Takayuki Uchida,Shizuo Fujita,Takahiro Hiramatsu,Hiroshi Kobayashi,Hiroyuki Orita Japanese Journal of Applied Physics,Vol.58,pp.025502 2019
Growth of α-Cr2O3 single crystals by mist CVD using ammonium dichromate Dang Thai Giang,Yuta Suwa,Masahito Sakamoto,Li Liu,Phimolphan Rutthongjan,Shota Sato,Tatsuya Yasuoka,Ryo Hasegawa,Toshiyuki Kawaharamura Applied Physics Express,Vol.11,pp.111101 2018
Bandgap engineering of α-(AlxGa1-x)2O3 by a mist chemical vapor deposition two-chamber system and verification of Vegard's Law Giang T. Dang,Tatsuya Yasuoka,Yuki Tagashira,Toshiyasu Tadokoro,Wolfgang Theiss,Toshiyuki Kawaharamura Appl. Phys. Lett.,Vol.113,pp.062102 2018
溶液系非真空薄膜作製手法ミストCVD による二硫化モリブデン(MoS2)層状薄膜の作製 佐藤 翔太,坂本 雅仁,川原村 敏幸 材料,Vol.67 2018
Single-step simple solvothermal synthetic approach to ultra-fine MgO nanocrystals using high-temperature and high-pressure acetonitrile Ellawala Kankanamge Chandima Pradeep,Masataka Ohtani,Kazuya Kobiro,Toshiyuki Kawaharamura Chem. Lett.,Vol.46,pp.940-943 2017
Atmospheric growth of hybrid ZnO thin films for inverted polymer solar cells Chandan Biswas,Zhu Ma,Xiaodan Zhu,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Kang L. Wang Solar Energy Materials and Solar Cells,Vol.157,pp.1048-1056 2016
Atmospheric-Pressure Epitaxial Growth Technique of a Multiple Quantum Well by Mist Chemical Vapor Deposition based on Leidenfrost droplets KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Dang Thai Giang,NITTA Noriko Appl. Phys. Lett.,Vol.109,No.15 2016
Transparent conductive zinc-oxide-based films grown at low temperature by mist chemical vapor deposition Shirahata Takahiro,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Fujita Shizuo,Orita Hiroyuki Thin Solid Film,Vol.597,pp.30-38 2015
Silver Oxide Schottky Contacts and Metal Semiconductor Field-Effect Transistors on SnO2 thin films Giang T. Dang,Takayuki Uchida,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,FURUTA Mamoru,Adam R. Hyndman,Rodrigo Martinez,Shizuo Fujita,Roger J. Reeves,Martin W. Allen Applied Physics Express,Vol.9,pp.041101 2016
Atmospheric and Aqueous Deposition of Polycrystalline Metal Oxides Using Mist-CVD for Highly Efficient Inverted Polymer Solar Cells Xiaodan Zhu,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Adam Z Stieg,Chandan Biswas,Lu Li,Zhu Ma,Mark A. Zurbuchen,Qibing Pei,Kang L Wang Nano Letters,Vol.15,pp.4948-4954 2015
Metal-Semiconductor Field-Effect Transistors With In–Ga–Zn–O Channel Grown by Nonvacuum-Processed Mist Chemical Vapor Deposition Giang T. Dang,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,FURUTA, Mamoru,Martin W. Allen Electron Device Letters, IEEE,Vol.36,No.5,pp.463-465 2015
Ultrasonic-assisted mist chemical vapor deposition of II-oxide and related oxide compounds Shizuo Fujita,Kentaro Kaneko,Takumi Ikenoue,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,FURUTA, Mamoru physica status solidi (c),Vol.11,No.7-8,pp.1225-1228 2014
Mist chemical vapor deposition of aluminum oxide thin films for rear surface passivation of crystalline silicon solar cells Takayuki Uchida,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Kenji Shibayama,Shizuo Fujita,Takahiro Hiramatsu,Hiroyuki Orita Applied Physics Express,Vol.7,No.2,pp.021303 2014
Physics on development of open-air atmospheric pressure thin film fabrication technique using mist droplets; control of precursor flow KAWAHARAMURA, Toshiyuki Jpn. J. Appl. Phys.,Vol.53,No.5S1,pp.05FF08 2014
Electrical Properties of the Thin-Film Transistor With an Indium–Gallium–Zinc Oxide Channel and an Aluminium Oxide Gate Dielectric Stack Formed by Solution-Based Atmospheric Pressure Deposition FURUTA, Mamoru,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,WANG,Dapeng,Tatsuya Toda,HIRAO, Takashi IEEE Electron Device Letters,Vol.33,No.6,pp.851-853 2012
Successful Growth of Conductive Highly Crystalline Sn-Doped a-Ga2O3 Thin Films by Fine-Channel Mist Chemical Vapor Deposition KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Tai Jan Dan,FURUTA, Mamoru Japanese Journal of Applied Physics,Vol.51,pp.040207-1-040207-3 2012
Photo-Leakage Current of Thin-Film Transistors with ZnO Channels Formed at Various Oxygen Partial Pressures under Visible Light Irradiation S. Shimakawa,Y. Kamada,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,WANG,Dapeng,LI, Chaoyang,S. Fujita,HIRAO, Takashi,FURUTA, Mamoru Japanese Journal of Applied Physics,Vol.51,pp.03CB04-1-03CB04-4 2012
Control of swelling height of Si crystal by irradiating Ar beam MOMOTA, Sadao,Jango Hangu,Takuya Toyonaga,Hikaru Terauchi,Kazuki Maeda,Jun Taniguchi,HIRAO, Takashi,FURUTA, Mamoru,KAWAHARAMURA, Toshiyuki Journal of Nanoscience and Nanotechnology,Vol.12,No.1,pp.552-556 2012
重イオンビームを用いたナノメートルサイズの3次元加工 百田 佐多生,平尾 孝,古田 守,川原村 敏幸,谷口淳 高知工科大学紀要,Vol.8,No.1,pp.89-94 2011
Photoluminescence, morphology, and structure of hydrothermal ZnO implanted at room temperature with 60 keV Sn ions Tai Jan Dan,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,NITTA, Noriko,HIRAO, Takashi,T. Yoshiie,TANIWAKI, Masafumi J. Appl. Phys.,Vol.109,pp.123516 2011
Characteristics of ZnO Wafers Implanted with 60 keV Sn+ Ions at Room Temperature and at 110 K Tai Jan Dan,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,HIRAO, Takashi,NITTA, Noriko,TANIWAKI, Masafumi AIP Conference Proceedings,Vol.1321,pp.270-273 2011
Crystal Structure Analysis of Multiwalled Carbon Nanotube Forests by Newly Developed Cross-Sectional XRD Measurement H. Furuta,T. Kawaharamura,M. Furuta,K. Kawabata,T. Hirao,T. Komukai,K. Yoshihara,Y. Shimomoto,T. Oguchi Applied Physics Express,Vol.3,pp.105101-1-105101-3 2010
High-Density Short-Height Directly Grown CNT Patterned Emitter on Glass H. Furuta,T. Kawaharamura,K. Kawabata,M. Furuta,T. Matsuda,C. Li,T. Hirao e-Journal of Surface Science and Nanotechnology,Vol.8,pp.336-339 2010
Effect of Pulsed Substrate Bias on Film Properties of SiO2 Deposited by Inductively Coupled Plasma Deposition T. Hiramatsu,T. Matsuda,H. Furuta,H. Nitta,T. Kawaharamura,C. Li,M. Furuta,T. Hirao Japanese Journal Applied Physics,Vol.49,pp.03CA03-1-03CA03-4 2010
Comparison of structural and photoluminescence properties of ZnO nano-structures influenced by gas ratio and substrate bias during radio frequency sputtering Chaoyang Li,Tokiyoshi Matsuda,Toshiyuki Kawaharamura,Hiroshi Furuta,Mamoru Furuta,Takahiro Hiramatsu,Takashi Hirao,Yoichiro Nakanishi,Keiji Ichi J. Vac. Sci. Technol. B,Vol.28,No.2,pp.C2B51-55 2010
Effect of Surface Treatment of Gate-insulator on Uniformity in Bottom-gate ZnO Thin-film Transistors FURUTA, Mamoru,T. Nakanishi,M. Kimura,T. Hiramatsu,T. Matsuda,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,FURUTA, Hiroshi,HIRAO, Takashi Electrochemical and Solid-State Letters,Vol.13,pp.H101-H104 2010
高知工科大学紀要「カーボンナノチューブの合成と電界電子放出ランプFELへの応用」 古田 寛,川原村 敏幸,川端 克昌,古田 守,平尾 孝 高知工科大学紀要,Vol.6,No.1,pp.47-55 2009
Intense green cathodoluminescence from low-temperature-deposited ZnO film with fluted hexagonal cone nanostructures Chaoyang Li,Toshiyuki Kawaharamura,Tokiyoshi Matsuda,Hiroshi Furuta,Takahiro Hiramatsu,FURUTA, Mamoru,Takashi Hirao Appl. Phys. Express,Vol.2,pp.091601-091603 2009
Second order optical effects in Au nanoparticle-deposited ZnO nanocrystallite films K. Ozga,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,A. AliUmar,M. Oyama,K. Nouneh,A Slezak,S. Fujita,M. Piasecki,A. H. Reshak,I. V. Kityk Nanotechnology,Vol.19,pp.185709-1-185709-6 2008
ミストCVD法の薄膜作製におけるファインチャネルおよび衝突混合の効果 川原村敏幸,西中浩之,藤田静雄 日本材料学会誌,Vol.57,pp.481-487 2008
An approach of making single crystalline zinc oxide thin film with fine channel mist chemical vapor deposition method Toshiyuki Kawaharamura,Shizuo Fujita Physica Stat. Sol. (c),Vol.5,pp.3138-3140 2008
Mist CVD growth of ZnO-based thin films and nanostructures Toshiyuki Kawaharamura,Hiroyuki Nishinaka,Jian-Guo Lu,Yudai Kamada,Yoshio Masuda,Shizuo Fujita J. Korean Physical Society,Vol.53,pp.2976-2980 2008
Growth of crystalline zinc oxide thin films by fine channel mist chemical vapor deposition Toshiyuki Kawaharamura,Hiroyuki Nishinaka,Shizuo Fujita Jpn. J. Appl. Phys.,Vol.47,pp.4669-4675 2008
ミストCVD法とその酸化亜鉛薄膜成長への応用に関する研究 川原村 敏幸 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻博士論文 2008
Low-temperature growth of ZnO thin films by linear source utrasonic spray chemical vapor deposition Hiroyuki Nishinaka,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Shizuo Fujita Japanese Journal of Applied Physics,Vol.46,pp.6811-6813 2007
Fabrication of ZnO and ZnMgO thin films and UV photodetectors by mist chemical vapor deposition method Yudai Kamada,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Hiroyuki Nishinaka,Shizuo Fujita Mater. Res. Soc. Symp. Proc.,Vol.957,pp.K07-27 2007
Roles of hydrogen and nitrogen in p-type doping of ZnO Jian-Guo Lu,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Hiroyuki Nishinaka,Shizuo Fujita Chemical Physics Letters,Vol.441,pp.68-71 2007
ZnO-based thin films synthesized by atmospheric pressure mist chemical vapor deposition Jian-Guo Lu,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Hiroyuki Nishinaka,Yudai Kamada,Takayoshi Oshima,Shizuo Fujita Journal of Crystal Growth,Vol.299,pp.1-10 2007
Carrier concentrationinduced band-gap shift in Al-doped Zn1-xMgxO thin films Jian-Guo Lu,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Hiroyuki Nishinaka,Yudai Kamada,Takayoshi Oshima,Shizuo Fujita Applied Physics Letters,Vol.89,pp.262107_1-262107_3 2006
Linear-source ultrasonic spray chemical vapor deposition method for fabrication of ZnMgO films and ultraviolet photodetectors Yudai Kamada,KAWAHARAMURA, Toshiyuki,Hiroyuki Nishinaka,Shizuo Fujita Japanese Journal of Applied Physics,Vol.45,pp.L857-L859 2006
ファインチャネルミスト法によるZnO透明薄膜の作製とその特性 川原村敏幸,西中浩之,亀谷圭介,増田喜男,谷垣昌敬,藤田静雄 日本材料学会誌,Vol.55,pp.153-158 2006

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学会発表・講演など

  1. ミストCVDにおける薄膜成長メカニズム,第66回応用物理学会春季学術講演会(2019)
  2. Properties of corundum structure α-(CrxGa1-x)2O3 and α-(AlxGa1-x)2O3 thin films grown via Mist CVD,The 8th International Conference on Advanced Materials & Nanotechnology(2017)
  3. Study on the Influence Factors of Antimony Doped Tin Oxide Thin Films With High Conductivity Deposited via Mist CVD,Solid State Devices and Materials (SSDM 2017)(2017)
  4. Study on Fabrication of Yttrium Oxide Thin Films Using Mist CVD,Solid State Devices and Materials (SSDM 2017)(2017)
  5. Composition Control of ZnMgO Thin-films by Mist Chemical Vapor Deposition,Solid State Devices and Materials (SSDM 2017)(2017)
  6. The effect of Mist CVD growth temperature to ZnMgO thin-film properties on ZnO buffer layer,6th International Symposium on Frontier Technology (ISFT 2017)(2017)
  7. Development of α-Ga2O3-based high power devices,6th International Symposium on Frontier Technology (ISFT 2017)(2017)
  8. Synthetic Method Tailoring to Obtain Morphology Controlled Unary, Binary, and Ternary Metal Oxide Nanoparticles,6th International Symposium on Frontier Technology (ISFT 2017)(2017)
  9. ミストCVDにより作製した二硫化モリブデン(MoS2)薄膜の特性評価,第65回応用物理学会春季学術講演会(2018)
  10. Fabrication on Yttrium Oixde Thin Film with High Dielectric Constant by Solution-Based Mist Chemical Vapor Deposition,2017 MRS Fall Meeting & Exhibit(2017)
  11. Study on the Effect of Solvents on Fabricating ZnO Thin Films by Solution-Based Mist Chemical Vapor Deposition,2017 MRS Fall Meeting & Exhibit(2017)
  12. A Solution Process To Prepare IGZO Coatings to be Used in Disposable Information Displays,The 4th International Conference on Nanoscience and Nanotechnology -2017 (ICNSNT-2017)(2017)
  13. Supercritical Acetonitrile as A Novel Green Reaction Media for Single-Step Synthesis of Ultra-Fine MgO Nanocrystals,The 4th International Conference on Nanoscience and Nanotechnology -2017 (ICNSNT-2017)(2017)
  14. A Fine Channel Reactor as Novel Multi-Purpose Tool for Continuous Uniform Nano-Fabrication,The 4th International Conference on Nanoscience and Nanotechnology -2017 (ICNSNT-2017)(2017)
  15. Properties of Molybdenum Disulfide (MoS2) Thin Film Fabricated by Mist CVD,第36回電子材料シンポジウム(2017)
  16. The Effect of Mist on the Fabrication of Metal Oxide thin films,第36回電子材料シンポジウム(2017)
  17. Study on the Effect of Solvents on Fabricating ZnO Thin Films By Solution-based Mist Chemical Vapor Deposition,第36回電子材料シンポジウム(2017)
  18. 時間的・空間的隔たり産み出すミスト流を用いた新反応制御技術の開発2,第78回応用物理学会秋季学術講演会(2017)
  19. 球体伝達機構を用いた全方向移動手段開発への挑戦,ナノテク研シンポジウム(2017)
  20. 高温壁近傍における液滴挙動を表すモデル式の再検討,ナノテク研シンポジウム(2017)
  21. 気相中を流動する微小液滴の挙動観測,ナノテク研シンポジウム(2017)
  22. ミストCVDによるSn系透明導電膜の作製,ナノテク研シンポジウム(2017)
  23. ミストCVDにおける高品質金属酸化物薄膜作製を目的とした反応メカニズム解析,ナノテク研シンポジウム(2017)
  24. 金属化合物の熱分解時における水の効果,ナノテク研シンポジウム(2017)
  25. FC式ミストCVDにおける高品質金属酸化物薄膜作製を目的とした反応メカニズム解析(Ⅱ),第65回応用物理学会春季学術講演会(2018)
  26. Investigation on the composition ratio via ZnMgO thin film fabrication by mist CVD,ナノテク研シンポジウム(2017)
  27. Water-Supporting Fabrication of Yttrium Oxide (YOx) Thin Films by Mist CVD,ナノテク研シンポジウム(2017)
  28. ミストCVD法における金属化合物と反応場雰囲気の影響,第65回応用物理学会春季学術講演会(2018)
  29. 時間的・空間的隔たり産み出すミスト流を用いた新反応制御技術の開発3,第65回応用物理学会春季学術講演会(2018)
  30. 時間的・空間的隔たり産み出すミスト流を用いた新反応制御技術の開発,第64回応用物理学会春季学術講演会(2017)
  31. ミストを用いた大気圧下で大面積に亘り高品質な機能薄膜を作製する技術の開発,化学工学会 第48回秋季大会(2016)
  32. Development of Innovative Atmospheric-Pressure Epitaxial Growth Technique “Mist Chemical Vapor Deposition” based on Leidenfrost state droplets,Gloval Forum on Advanced Materials and Technologies for Sustainable Development 2016(2016)
  33. Physics on development of open-air atmospheric pressure thin film fabrication technique using mist droplets: Control of precursor flow,第76回応用物理学会秋季学術講演会(2015)
  34. Fabrication Challenge of Quantum Devices by Mist CVD with Highly-Controlled Fluid Technology under Atmospheric Pressure,The 2nd Annual International Conference on Nanoscience and Nanotechnology -2015 (ICNSNT-2015)(2015)
  35. Fabrication of Functional Thin Films and Electrical Devices by Mist CVD Equipping Highly Accurate Flow Control Technology under Atmospheric Pressure,AWAD(2015)
  36. Water-Based and Scalable Processing of Metal Oxide Using Atmospheric Mist-CVD for High Efficiency Inverted Polymer Solar Cells,2014 MRS Fall Meeting & Exhibit(2014)
  37. A Multiple Quantum Well Fe2O3/Ga2O3 Fabricated Under Atmospheric Pressure by Mist Chemical Vapor Deposition Based on Leidenfrost Effect,2014 MRS Fall Meeting & Exhibit(2014)
  38. Influence of annealing under reducing ambient on properties of ZnO thin films prepared by mist CVD.,ISCS2011(2011)
  39. ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製
    ~大気圧下、低温成長への挑戦~,発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会(2011)
  40. An approach for singlecrystalline zinc oxide thin film with fine channel mist CVD method,34th Int. Symp. Compound Semiconductors(2007)
  41. The growth of singlecrystalline ZnO films on a-plane sapphire by fine channel mist CVD method,14th Int. Workshop on Oxide Electronics(2007)
  42. Fine Channel Mist CVD法による単結晶ZnO薄膜の作製(2),第68回秋期応用物理学会学術講演会(2007)
  43. Mist-CVD growth of ZnO-based thin films and nanostructures,13th Int. Conf. II-VI Compounds(2007)
  44. Epitaxial growth of ZnO films on sapphire by fine channel mist CVD method,第26回電子材料シンポジウム(2007)
  45. Fine Channel Mist CVD法による単結晶ZnO薄膜の作製,第54回春期応用物理学関係連合講演会(2007)
  46. Fine channel mist chemical vapor deposition (FCM-CVD) as a novel technology for growth of ZnO thin films,4th Int. Workshop on ZnO and Related Materials(2006)
  47. ファインチャネルミストCVD法によるサファイア基板上ZnO薄膜の作製,第67回秋期応用物理学会学術講演会(2006)
  48. Fabrication of ZnO thin films prepared by mist-CVD method,第25回電子材料シンポジウム(2006)
  49. ファインチャネルミスト(FCM)法によるZnO透明薄膜の作製(2),第53回春期応用物理学関係連合講演会(2006)
  50. ミストCVD法による各種金属酸化物薄膜の作製,第53回春期応用物理学関係連合講演会(2006)
  51. 国際学会発表,国際学会発表(2006)
  52. ファインチャネルミスト(FCM)法によるZnO透明薄膜の作製,第66回秋期応用物理学会学術講演会(2005)
  53. Fabrication and properties of ZnO thin films prepared by micro channel mist CVD,第24回電子材料シンポジウム(2005)
  54. 超音波噴霧熱分解CVD法によるZnO透明薄膜の作製とその特性(2),第52回春期応用物理学関係連合講演会(2005)
  55. 超音波噴霧熱分解CVD法によるZnO透明薄膜の作製とその特性,第65回秋期応用物理学会学術講演会(2004)
  56. 国内学会 発表,国内学会発表(2004)

主な特許

  1. 酸化亜鉛(ZnO)系単結晶ナノ構造体、ZnO系薄膜及びZnO系単結晶性薄膜の製造方法、並びにZnO系単結晶性薄膜及び該ZnO系単結晶性薄膜からなるZnO系材料(特願2012-125420)
  2. 薄膜及び成膜方法並びに該方法により得られる薄膜蛍光体(特開2011-021159)
  3. 多層カーボンナノチューブの集合構造の評価方法(特願 2010-061933)
  4. ミストエッチング装置及びミストエッチング方法(特願 2010-45991)
  5. 薄膜及び成膜方法並びに該方法により得られる薄膜蛍光体(特願 2009-169617)
  6. 電子放出素子(特願 2009-47406)
  7. 原料ガス噴出用ノズル及び化学的気相成膜装置(特願2006-083679)
  8. 成膜方法及び成膜装置(特願2005-332083)
  9. 成膜用霧化装置(特開2005-305233)
  10. 成膜方法及び成膜装置(特開2005-307238)

科学研究費

KAKENは国立情報学研究所が行っているサービスです。

区分 研究課題 研究種目 研究期間 課題番号
代表 ミストの特性を利用した応用技術の開発I-電子デバイス作製技術の為のミスト法- 若手研究(B) 2010 - 2011 22760232
代表 立体物への機能薄膜作製技術に向けたライデンフロスト効果の基礎解析 挑戦的萌芽研究 2014/04/01 - 2016/03/31 26630395
代表 原子レベル制御を可能とした次世代ミストCVDによる酸化物量子デバイス開発 若手研究(A) 2015/04/01 - 2019/03/31 15H05421
代表 ミストCVDによる高耐圧HEMTの作製 特別研究員奨励費 2016/10/07 - 2019/03/31 16F16373
分担 Development of a high sensitive hydrogen gas detector based on the photoluminescence property of ZnO-based nanostructures 基盤研究(C) 2017/04/01 - 2020/03/31 (予定) 17K06394
分担 モノリシック共振器型ワイドギャップ半導体波長変換素子の開発 挑戦的研究(萌芽) 2017/06/30 - 2019/03/31 17K19078
代表 ミストCVDによる超広バンドギャップ酸化物量子素子創出の為のナノ構造制御基礎研究 基盤研究(B) 2018/04/01 - 2022/03/31 (予定) 18H01873

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競争的資金など

研究課題 事業名等 研究期間 受託先 担当教員
高品質/高均質薄膜を実現する非真空成膜プロセスの研究開発 エネルギー・環境新技術先導プログラム 2015/02/27~2017/02/28 国立研究開発法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構 川原村 敏幸

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社会貢献及び広報活動

学外委員・学会活動など

  1. 薄膜材料デバイス研究会 組織委員(2014~)
  2. 応用物理学会 プログラム編集委員
  3. 国際固体素子・材料コンファレンス 論文総務(2013~2016)
  4. 電子材料シンポジウム 電子材料シンポジウム(EMS) 実行委員(2009~2011)
  5. CVD研究会 幹事

地域活動にかかわる委員など

  1. 香美市教育委員会 香美市立香長小学校運営協議会委員(2018~2019)
  2. 香美市役所 香美市地球温暖化対策地域協議会 会長(2015~)

その他の社会活動など

  1. NPO法人 大気イオン地震予測研究会 e-PISCO 理事(2011~)

一般講演など

  1. ミストCVD技術の開発と今後の可能性,サイエンス&テクノロジー株式会社(2019)
  2. 「ミストCVD技術の開発と今後の可能性」~大気圧下における高品質機能膜形成のために~,(株)R&D支援センター(2017)
  3. 「ミストCVD技術の開発と今後の可能性」~注目の薄膜形成技術ミストCVDの実力に迫る~,サイエンス&テクノロジー株式会社(2017)

主な著書など

  1. 「コンバーテックのすべて」
    「ミストを利用した大気圧薄膜作製手法の開発に関わる原理 -原料流の制御-」,加工技術研究会,2014,ISBN 9784906451456
  2. ミストを利用した薄膜成長技術および加工技術の開発,コンバーテック,2011