教員情報詳細

教員略歴

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本年度担当講義

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研究シーズ

メッセージ

今のレベルでやれることはそれほど大きくないですが、皆様にとって面白いと思える未来を提供するために一研究者として、日々精進します。

研究業績

主な受賞歴など

• 第37回（2015年度）応用物理学会論文奨励賞（2015） 応用物理学会
• 2014年 第75回 応用物理学会秋季学術講演会 Poster Award（2014） 応用物理学会
• 第七回 薄膜材料デバイス研究会 ベストペーパーアワード（2010） 薄膜材料デバイス研究会
• 第22回 (2007年春期) 応用物理学会講演奨励賞（2007） 第54回応用物理学関係連合講演会
• 第26回EMS賞（2007） 電子材料シンポジウム
• VBL若手研究助成奨励賞（2007） 京大VBL若手研究助成成果発表会　
• VBL若手研究助成最優秀賞（2006） 京大VBL若手研究助成成果発表　
• ナノ工学高等研究員若手研究者優秀賞（2005） 第3回ナノ工学高等研究員若手研究者発表会

代表的な研究論文

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学会発表・講演など

1. 大気圧下での機能膜合成手法の開発，東京大学 大学院工学系研究科　マテリアル工学セミナー（2023）
2. Development of 3rd generation mist CVD system，International Chemical Engineering Symposia (IChES) 2023（2023）
3. Reaction mechanism of mist CVD，International Chemical Engineering Symposia (IChES) 2023（2023）
4. 酸化ガリウム(Ga2O3)の結晶成長・薄膜形成とデバイス応用，（株）サイエンス＆テクノロジー株式会社（2023）
5. 「ミストCVD技術の開発と今後の可能性」～ミスト流を利用した注目の機能膜作製手法の現在地と今後の展望～，（株）Ｒ＆Ｄ支援センター（2022）
6. 「ミストCVD技術の開発動向と今後の可能性」～ミスト流を利用した注目の機能膜作製手法の現在地と今後の展望～，サイエンス＆テクノロジー株式会社（2022）
7. 大気圧溶液系機能膜形成手法ミストCVD，産総研FIoTコンソーシアム-IJ分科会（2022）
8. ミスト流を利用した機能膜形成手法「ミストCVD」の現況，ガラス科学技術研究会（2022）
9. ミスト流を用いた機能膜合成技術の開発状況，第14回ナノ構造エピタキシャル成長講演会（2022）
10. Growth Mechanism of mist CVD，the 2022 Spring Meeting of the European Materials Research Society (E-MRS)（2022）
11. Fabrication and characterization of the metal oxide thin film by mist CVD，the 2022 E-MRS Fall Meeting and Exhibit（2022）
12. 界面制御による縦型パワーデバイス適用を目指したGaN MOSFET特性，第67回応用物理学会春季学術講演会（2021）
13. Challenge of Using Mist-CVD for Preparation of AgxO/Zn1-xMgxO Schottky Diodes，Solid State Devices and Materials (SSDM 2021)（2021）
14. ミストCVDプロセス，CEATEC（2019）
15. Growth Mechanism of mist CVD，Materials Research Meeting 2019 (MRM 2019)（2019）
16. Thin Film Growth Mechanism in CVD using Flow Containing Mist Droplets，The 2019 Spring Meeting of the European Materials Research Society (E-MRS)（2019）
17. ミストCVDにおける薄膜成長メカニズム，第66回応用物理学会春季学術講演会（2019）
18. Properties of corundum structure α-(CrxGa1-x)2O3 and α-(AlxGa1-x)2O3 thin films grown via Mist CVD，The 8th International Conference on Advanced Materials & Nanotechnology（2017）
19. Study on the Influence Factors of Antimony Doped Tin Oxide Thin Films With High Conductivity Deposited via Mist CVD，Solid State Devices and Materials (SSDM 2017)（2017）
20. Study on Fabrication of Yttrium Oxide Thin Films Using Mist CVD，Solid State Devices and Materials (SSDM 2017)（2017）
21. Composition Control of ZnMgO Thin-films by Mist Chemical Vapor Deposition，Solid State Devices and Materials (SSDM 2017)（2017）
22. The effect of Mist CVD growth temperature to ZnMgO thin-film properties on ZnO buffer layer，6th International Symposium on Frontier Technology (ISFT 2017)（2017）
23. Development of α-Ga2O3-based high power devices，6th International Symposium on Frontier Technology (ISFT 2017)（2017）
24. Synthetic Method Tailoring to Obtain Morphology Controlled Unary, Binary, and Ternary Metal Oxide Nanoparticles，6th International Symposium on Frontier Technology (ISFT 2017)（2017）
25. ミストCVDにより作製した二硫化モリブデン(MoS2)薄膜の特性評価，第65回応用物理学会春季学術講演会（2018）
26. Fabrication on Yttrium Oixde Thin Film with High Dielectric Constant by Solution-Based Mist Chemical Vapor Deposition，2017 MRS Fall Meeting & Exhibit（2017）
27. Study on the Effect of Solvents on Fabricating ZnO Thin Films by Solution-Based Mist Chemical Vapor Deposition，2017 MRS Fall Meeting & Exhibit（2017）
28. A Solution Process To Prepare IGZO Coatings to be Used in Disposable Information Displays，The 4th International Conference on Nanoscience and Nanotechnology -2017 (ICNSNT-2017)（2017）
29. Supercritical Acetonitrile as A Novel Green Reaction Media for Single-Step Synthesis of Ultra-Fine MgO Nanocrystals，The 4th International Conference on Nanoscience and Nanotechnology -2017 (ICNSNT-2017)（2017）
30. A Fine Channel Reactor as Novel Multi-Purpose Tool for Continuous Uniform Nano-Fabrication，The 4th International Conference on Nanoscience and Nanotechnology -2017 (ICNSNT-2017)（2017）
31. Properties of Molybdenum Disulfide (MoS2) Thin Film Fabricated by Mist CVD，第36回電子材料シンポジウム（2017）
32. The Effect of Mist on the Fabrication of Metal Oxide thin films，第36回電子材料シンポジウム（2017）
33. Study on the Effect of Solvents on Fabricating ZnO Thin Films By Solution-based Mist Chemical Vapor Deposition，第36回電子材料シンポジウム（2017）
34. 時間的･空間的隔たり産み出すミスト流を用いた新反応制御技術の開発2，第78回応用物理学会秋季学術講演会（2017）
35. 球体伝達機構を用いた全方向移動手段開発への挑戦，ナノテク研シンポジウム（2017）
36. 高温壁近傍における液滴挙動を表すモデル式の再検討，ナノテク研シンポジウム（2017）
37. 気相中を流動する微小液滴の挙動観測，ナノテク研シンポジウム（2017）
38. ミストCVDによるSn系透明導電膜の作製，ナノテク研シンポジウム（2017）
39. ミストCVDにおける高品質金属酸化物薄膜作製を目的とした反応メカニズム解析，ナノテク研シンポジウム（2017）
40. 金属化合物の熱分解時における水の効果，ナノテク研シンポジウム（2017）
41. FC式ミストCVDにおける高品質金属酸化物薄膜作製を目的とした反応メカニズム解析(Ⅱ)，第65回応用物理学会春季学術講演会（2018）
42. Investigation on the composition ratio via ZnMgO thin film fabrication by mist CVD，ナノテク研シンポジウム（2017）
43. Water-Supporting Fabrication of Yttrium Oxide (YOx) Thin Films by Mist CVD，ナノテク研シンポジウム（2017）
44. ミストCVD法における金属化合物と反応場雰囲気の影響，第65回応用物理学会春季学術講演会（2018）
45. 時間的･空間的隔たり産み出すミスト流を用いた新反応制御技術の開発3，第65回応用物理学会春季学術講演会（2018）
46. 時間的･空間的隔たり産み出すミスト流を用いた新反応制御技術の開発，第64回応用物理学会春季学術講演会（2017）
47. ミストを用いた大気圧下で大面積に亘り高品質な機能薄膜を作製する技術の開発，化学工学会 第48回秋季大会（2016）
48. Development of Innovative Atmospheric-Pressure Epitaxial Growth Technique “Mist Chemical Vapor Deposition” based on Leidenfrost state droplets，Gloval Forum on Advanced Materials and Technologies for Sustainable Development 2016（2016）
49. Physics on development of open-air atmospheric pressure thin film fabrication technique using mist droplets: Control of precursor flow，第76回応用物理学会秋季学術講演会（2015）
50. Fabrication Challenge of Quantum Devices by Mist CVD with Highly-Controlled Fluid Technology under Atmospheric Pressure，The 2nd Annual International Conference on Nanoscience and Nanotechnology -2015 (ICNSNT-2015)（2015）
51. Fabrication of Functional Thin Films and Electrical Devices by Mist CVD Equipping Highly Accurate Flow Control Technology under Atmospheric Pressure，AWAD（2015）
52. Water-Based and Scalable Processing of Metal Oxide Using Atmospheric Mist-CVD for High Efficiency Inverted Polymer Solar Cells，2014 MRS Fall Meeting & Exhibit（2014）
53. A Multiple Quantum Well Fe2O3/Ga2O3 Fabricated Under Atmospheric Pressure by Mist Chemical Vapor Deposition Based on Leidenfrost Effect，2014 MRS Fall Meeting & Exhibit（2014）
54. Influence of annealing under reducing ambient on properties of ZnO thin films prepared by mist CVD.，ISCS2011（2011）
55. ミストデポジション法による酸化マグネシウム(MgO)薄膜作製
    ～大気圧下、低温成長への挑戦～，発光型／非発光型ディスプレイ合同研究会（2011）
56. An approach for singlecrystalline zinc oxide thin film with fine channel mist CVD method，34th Int. Symp. Compound Semiconductors（2007）
57. The growth of singlecrystalline ZnO films on a-plane sapphire by fine channel mist CVD method，14th Int. Workshop on Oxide Electronics（2007）
58. Fine Channel Mist CVD法による単結晶ZnO薄膜の作製(2)，第68回秋期応用物理学会学術講演会（2007）
59. Mist-CVD growth of ZnO-based thin films and nanostructures，13th Int. Conf. II-VI Compounds（2007）
60. Epitaxial growth of ZnO films on sapphire by fine channel mist CVD method，第26回電子材料シンポジウム（2007）
61. Fine Channel Mist CVD法による単結晶ZnO薄膜の作製，第54回春期応用物理学関係連合講演会（2007）
62. Fine channel mist chemical vapor deposition (FCM-CVD) as a novel technology for growth of ZnO thin films，4th Int. Workshop on ZnO and Related Materials（2006）
63. ファインチャネルミストCVD法によるサファイア基板上ZnO薄膜の作製，第67回秋期応用物理学会学術講演会（2006）
64. Fabrication of ZnO thin films prepared by mist-CVD method，第25回電子材料シンポジウム（2006）
65. ファインチャネルミスト(FCM)法によるZnO透明薄膜の作製(2)，第53回春期応用物理学関係連合講演会（2006）
66. ミストCVD法による各種金属酸化物薄膜の作製，第53回春期応用物理学関係連合講演会（2006）
67. 国際学会発表，国際学会発表（2006）
68. ファインチャネルミスト(FCM)法によるZnO透明薄膜の作製，第66回秋期応用物理学会学術講演会（2005）
69. Fabrication and properties of ZnO thin films prepared by micro channel mist CVD，第24回電子材料シンポジウム（2005）
70. 超音波噴霧熱分解CVD法によるZnO透明薄膜の作製とその特性(2)，第52回春期応用物理学関係連合講演会（2005）
71. 超音波噴霧熱分解CVD法によるZnO透明薄膜の作製とその特性，第65回秋期応用物理学会学術講演会（2004）
72. 国内学会 発表，国内学会発表（2004）

主な特許

1. 酸化亜鉛（ＺｎＯ）系単結晶ナノ構造体、ＺｎＯ系薄膜及びＺｎＯ系単結晶性薄膜の製造方法、並びにＺｎＯ系単結晶性薄膜及び該ＺｎＯ系単結晶性薄膜からなるＺｎＯ系材料（特願2012-125420）
2. 薄膜及び成膜方法並びに該方法により得られる薄膜蛍光体（特開2011-021159）
3. 多層カーボンナノチューブの集合構造の評価方法（特願 2010-061933）
4. ミストエッチング装置及びミストエッチング方法（特願 2010-45991）
5. 薄膜及び成膜方法並びに該方法により得られる薄膜蛍光体（特願 2009-169617）
6. 電子放出素子（特願 2009-47406）
7. 原料ガス噴出用ノズル及び化学的気相成膜装置（特願2006-083679）
8. 成膜方法及び成膜装置（特願2005-332083）
9. 成膜用霧化装置（特開2005-305233）
10. 成膜方法及び成膜装置（特開2005-307238）

科学研究費

KAKENは国立情報学研究所が行っているサービスです。

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競争的資金など

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社会貢献及び広報活動

学外委員・学会活動など

1. 第16回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会 委員（2023～2024）
2. 電子情報通信学会 エレクトロニクスソサエティ 電子デバイス (ED) 研究専門委員会 委員（2021～）
3. 薄膜材料デバイス研究会 実行委員長(第20回)（2023）
4. 薄膜材料デバイス研究会 組織委員（2014～）
5. 国際固体素子・材料コンファレンス 論文総務（2013～2016）
6. 電子材料シンポジウム 電子材料シンポジウム(EMS) 実行委員（2009～2011）
7. CVD研究会 幹事

地域活動にかかわる委員など

1. 香美市教育委員会 香美市立香長小学校運営協議会委員（2022～2024）
2. 香美市役所 香美市地球温暖化対策地域協議会 会長（2022～2024）
3. 高知県教育委員会 科学の甲子園の高知県大会 審査員（2022）
4. 高知県教育委員会 科学の甲子園の高知県大会 審査員
   （2021）
5. 香美市役所 香美市地球温暖化対策地域協議会 会長（2020～2022）
6. 香美市教育委員会 香美市立香長小学校運営協議会委員（2020～2021）
7. 香美市教育委員会 香美市立香長小学校運営協議会委員（2019～2020）
8. 香美市教育委員会 香美市立香長小学校運営協議会委員（2018～2019）
9. 香美市役所 香美市地球温暖化対策地域協議会 会長（2015～）

その他の社会活動など

1. 高知大学医学部非常勤講師（2020～2023）
2. 高知大学 医学部 講師 (非常勤) 数理科学Ⅰ, Ⅱ（2020～2021）
3. NPO法人 大気イオン地震予測研究会 e-PISCO 理事（2011～）

一般講演など

1. ミストＣＶＤ技術の開発と今後の可能性
   ～ミスト流を利用した注目の機能膜作製手法の現在地と今後の展望～，サイエンス＆テクノロジー株式会社（2020）
2. ミストＣＶＤ技術の開発と今後の可能性，サイエンス＆テクノロジー株式会社（2019）
3. 「ミストCVD技術の開発と今後の可能性」～大気圧下における高品質機能膜形成のために～，（株）Ｒ＆Ｄ支援センター（2017）
4. 「ミストＣＶＤ技術の開発と今後の可能性」～注目の薄膜形成技術ミストCVDの実力に迫る～，サイエンス＆テクノロジー株式会社（2017）

主な著書など

1. 「コンバーテックのすべて」
   「ミストを利用した大気圧薄膜作製手法の開発に関わる原理 －原料流の制御－」，加工技術研究会，2014，ISBN 9784906451456
2. ミストを利用した薄膜成長技術および加工技術の開発，コンバーテック，2011

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